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南轩(天津)科技有限公司是专门从事半导体湿法制程设备的生产和研发的生产制造企业,为半导体行业提供清洗段整体解决方案。


关于我们
公司简介
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南轩(天津)科技有限公司成立于2009年,坐落于天津宝坻中关村科技城,是一家致力于研发、生产、销售及服务为一体的湿法制程设备企业。

公司现有厂房占地面积约12000㎡,其中办公区面积1200㎡,洁净间面积500㎡,研发区面积500㎡;公司自成立至今,拥有研发专利30余项、先后获得了国高新技术企业、天津市雏鹰企业、天津市瞪羚企业等荣誉称号,并且已经通过ISO9001质量体系认证。公司配备独立专业的研发团队、日本清洗专家和一批经验丰富的专业技术人才,能够为客户提供全套清洗设备解决方案。

公司主要经营产品有4-12吋槽式湿法制程设备以及化学自动供液系统;应用范围涵盖了元素半导体(Si Ge)、化合物半导体(GaAs InP GaP)、宽禁带半导体(SiC GaN)及其他泛半导体行业所需的湿法清洗工艺需求,包含光刻胶去除、金属腐蚀、氧化物刻蚀、炉前清洗以及颗粒物去除等。

公司始终秉承“务实求真、拼搏进取”的企业精神,持续深耕于半导体行业,以匠人精神做好产品与服务,以优质的产品与服务去赢得越来越多客户与市场的认同。


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南轩(天津)科技有限公司

联系人:马 宁
邮箱:nanxuanluck@163.com
电话:13910604997  (同微信)
地址:天津市宝坻区中关村科技城曙光路1号
产品分类

碳化硅清洗设备
半导体清洗设备
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