022-59228686-812
咨询热线:

玻璃硅片超声波清洗机

383
发表时间:2019-01-23 00:00

百科名片

半导体器件生产中玻璃硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等,严重影响少数载流子寿命和表面电导;碱金属如钠等,引起严重漏电;颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等,会导致各种缺陷。将超声波清洗机应用到玻璃硅片生产中,不仅环保还提高产品质量。

设备特点

1.采用流行环保水基清洗工艺.该设计先进、合理,充分考虑了环保和节能的要求;

2.全封闭式结构,运行部件设计防止污染;

3.清洗机框架和烘干炉内均采用正压送风形式, 保持运行时的风流始终外溢;

4.清洗区域与维护区域隔离开,确保润滑油脂及运动磨损不会对清洗的产品产生二次污染;

5.有效保证工作室长期处于洁净状态,从而保证产品的洁净要求;

6.工位移载结构能减少辅助运行时间,保正工艺参数实施的准确性.

工作机理

1.欲清洗工件放入料框内专用固定夹内,由人工将料框放上入料口,等工位机械手自动将料框送入清洗机本体,上下提升机构依照PLC指定的程序将料框搬送到相应高度位置;

2.完成对工件的清洗、喷淋、漂洗、慢提拉脱水和热风干燥后、送至清洗机出口,运送到卸料台出料;

3.等工位机械手由气缸横向驱动,直线滑轨导向;

4.上下提升由马达驱动,直线导轴导向;慢提拉提升机构由变频马达驱动,直线滑块导向;

5.上下料由上下提升机构独立完成;

6.采用触摸屏操作系统,有手动和自动切换开关及有关操作按钮,能对整个运行过程实行控制。

应用范围

适用于硅片、水晶、光学玻璃、蓝宝石、陶瓷等清除被加工物表面的油污、研磨切削液等

南轩(天津)科技有限公司

联系人:马 宁
邮箱:nanxuanluck@163.com
电话:13910604997  (同微信)
地址:天津市宝坻区中关村科技城曙光路1号
产品分类

碳化硅清洗设备
半导体清洗设备
LED清洗设备
辅助设备
备品备件
关于我们

公司成立
人才队伍
经营业务

南轩(天津)科技有限公司

湿法制程设备领航企业