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SRD双腔甩干机

SRD双腔甩干机

1): 适用于对硅片、蓝宝石片、氮化镓、砷化镓、碳化硅片等半导体晶圆的全自动离心脱水、氮气吹扫烘干等;
2): 适用于2-12”晶圆的脱水甩干;
3): 配备电导率测试仪,可选清洗终点判定依据;
4): 配备旋转支架:工作转速 :400-2200rpm;转速误差<5%;平衡等级:G40;采用光盘自动定位,定位可靠;
5): 触摸屏+PLC控制方式;
6): 配备静电消除装置:将带电离子吹向甩干桶内以中和桶内静电离子。
上一个
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